特許

J-GLOBAL ID：200903000466482434

縦型熱処理装置及び真空処理装置

発明者： 寺田 和雄
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン東北株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-172267
公開番号（公開出願番号）：特開平7-169706
出願日： 1993年06月19日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：

【要約】【目的】 被処理体の保持具を反応管内にて回転機構により回転させながら熱処理を行う縦型熱処理装置において、回転機構から発生するパーティクルが反応管内に飛散するのを防止すること。【構成】 ウエハボート14を反応管1内に搬入したときに反応管1内を気密にシールするキャップ部22に、磁気結合により回転する回転機構3を設け、回転機構3の軸受空間Sに夫々開口するように不活性ガス供給管61及び不活性ガス排気管62を設けると共に、不活性ガス排気管62の外端側を真空ポンプ51に接続する。軸受空間Sにはセラミック軸受などからのパーティクルが滞留するが、反応管1内を真空排気する前に軸受空間Sを真空排気してパーティクルを外部に排出しておくことにより反応管1内へのパーティクルの飛散を防止できる。

請求項（抜粋）：

被処理体の保持具を回転軸を介して回転機構により支持し、反応管内にて保持具を回転させながら被処理体に対して熱処理を行う縦型熱処理装置において、前記反応管内に連通する回転機構内の軸受空間を真空排気するために、当該軸受空間に排気口が開口している真空排気手段と、前記反応管内を真空排気する前に、前記真空排気手段により軸受空間を真空排気するように制御する制御部と、を有してなることを特徴とする縦型熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/22 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 回転型反応炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-159290   出願人：株式会社日立製作所, 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリング株式会社
• 特開平4-026115
  
• 特開平3-129722
  
• 特開平1-093113
  

審査官引用 (4件)

• 回転型反応炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-159290   出願人：株式会社日立製作所, 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリング株式会社
• 特開平4-026115
  
• 特開平3-129722
  
• 特開平1-093113