特許

J-GLOBAL ID：200903000478849970

平坦化層に凹部を有するイメージセンサとその製造方法

発明者： ブリソ, ルイ ,  ソリエ, アメデ
出願人/特許権者： アトメル グルノーブル ソシエテ アノニム
代理人 (2件)： 園田 吉隆 ,  小林 義教
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-529531
公開番号（公開出願番号）：特表2005-503674
出願日： 2002年09月10日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：

本発明はイメージセンサの製造に関し、特にカラーイメージセンサに関する。イメージセンサは、電子信号に変換したい映像が投影される感光マトリックスが形成される領域MPと、マトリックスを駆動するためあるいは画像信号を処理するための周辺電子回路を含む外縁領域ZEとを有する。基板30上に導電層および絶縁層を積層することでマトリックスと周辺回路を形成した後、マトリックスの領域MPのみにおいて、実質的な厚さの絶縁体が除去されてからカラーフィルタのモザイクが堆積されるので、感光領域に対するフィルタの高さH1が低くなる。その結果、コントラストや測色が改善される。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

平面状の半導体基板(30)上に製造された集積イメージセンサであって、基板の表面の第1領域(MP)に感光素子のマトリックスを、第2領域(ZE)に周辺回路を有し、交互に設けられた複数段の絶縁層(IS1ないしIS7)およびエッチングされた導電層(M1ないしM4)からなる積層構造によって形成され、積層構造において絶縁層がエッチングされた導電層の平坦化層として機能し、第1領域に位置する絶縁層の半導体基板に対する総合的高さが、第2領域に位置する絶縁層の総合的高さより低いことを特徴とするセンサ。

IPC (2件)：

H01L27/146 ,  H04N5/335

FI (2件)：

H01L27/14 A ,  H04N5/335 U

Fターム (24件)：

4M118AA10 ,  4M118AB01 ,  4M118BA02 ,  4M118BA09 ,  4M118CA32 ,  4M118FA06 ,  4M118FC05 ,  4M118FC06 ,  4M118FC14 ,  4M118FC20 ,  4M118GC07 ,  4M118GC17 ,  4M118GC20 ,  5C024CX03 ,  5C024CX37 ,  5C024CX41 ,  5C024CY47 ,  5C024DX01 ,  5C024EX43 ,  5C024EX52 ,  5C024GX02 ,  5C024GY01 ,  5C024GY31 ,  5C024HX01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 固体撮像素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-179212   出願人：株式会社日立製作所
• 固体撮像装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-336483   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 光遮断層として積層されたカラ-フィルタ-を有するイメ-ジセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-182820   出願人：現代電子産業株式会社
• 光電子集積回路装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-258579   出願人：ソニー株式会社