特許

J-GLOBAL ID：200903000577082761

製造装置調整システム及び製造装置調整方法

発明者： 菅野 正洋 ,  浅野 昌史
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (7件)： 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  川又 澄雄 ,  中村 友之 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-045923
公開番号（公開出願番号）：特開2007-227570
出願日： 2006年02月22日
公開日（公表日）： 2007年09月06日
要約：

【課題】 製造物の寸法ばらつきを抑制可能な製造装置調整システムを提供する。【解決手段】 製造物の平面上の複数の部分の寸法を測定する測定装置332、複数の寸法の平面分布を、平面の座標の関数として直交多項式で近似する近似モジュール121、直交多項式の複数の項に、製造物を製造した製造装置20の複数の装置パラメータをそれぞれ関連付ける関連付けモジュール123、及び直交多項式で表現された平面分布を構成する複数の分布成分のそれぞれが減少するように、関連付けられた複数の装置パラメータを調整する調整モジュール352を備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

製造物の平面上の複数の部分の寸法を測定する測定装置と、 前記複数の寸法の平面分布を、前記平面の座標の関数として直交多項式で近似する近似モジュールと、 前記直交多項式の複数の項に、前記製造物を製造した製造装置の複数の装置パラメータをそれぞれ関連付ける関連付けモジュールと、 前記直交多項式で表現された前記平面分布を構成する複数の分布成分のそれぞれが減少するように、前記関連付けられた複数の装置パラメータを調整する調整モジュール とを備えることを特徴とする製造装置調整システム。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (2件)：

H01L21/30 562 ,  H01L21/30 514E

Fターム (3件)：

5F046AA18 ,  5F046DB04 ,  5F046DD03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• デバイス製造方法およびコンピュータプログラム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-397604   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ