デバイス製造方法およびコンピュータプログラム

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 山本貴和 , 岩本行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-397604
公開番号（公開出願番号）：特開2004-179663
出願日： 2003年11月27日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：

【課題】投影ビームとして超紫外線を使うリソグラフィ装置で吸収層の厚い反射性マスクと傾斜照明を使うために生ずる結像歪みを補正したデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】厚い吸収層にマスクパターンを具現した反射性マスク(MA)と傾斜照明が誘起する歪みを計算し、それを補正するために投影システム(PL)に収差を導入および/または制御する。これは、この投影システム(MA)に既存の光学素子の制御によって行えるので、装置を改造することなく実施できる。上記の収差は、ゼルニケ多項式でZ2(Xの傾斜)、Z3(Yの傾斜)、またはZ7(コマX)であるのが好ましい。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

デバイス製造方法であって、少なくとも部分的に放射線感応材料の層で覆われた基板(W)を用意する工程、放射線システムを使って放射線の投影ビームを用意する工程、該投影ビームの断面にパターンを付けるために厚い吸収層によって前記パターンが形成してある反射性マスクを使う工程、および放射線のパターン化したビームを放射線感応性材料の層の目標部分上に投影する工程、を含み、マスク(MA)が誘起する結像歪みを補償するために、パターン化したビームを投影する前記工程で使用する投影システムのシステム収差を制御または創成する方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/22 , G03F9/02

FI (6件)：

H01L21/30 531E , G03F7/20 503 , G03F7/22 H , G03F9/02 H , H01L21/30 516A , H01L21/30 517

Fターム (19件)：

2H097AA02 , 2H097AA03 , 2H097AB09 , 2H097BA10 , 2H097CA15 , 2H097GB00 , 2H097KA03 , 2H097KA28 , 2H097LA10 , 5F046BA05 , 5F046CB02 , 5F046CB03 , 5F046CB25 , 5F046DA13 , 5F046DD06 , 5F046GA03 , 5F046GA14 , 5F046GB01 , 5F046GD10

引用特許：

審査官引用 (6件)

リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれによって製造されるデバイス
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-095774 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-324769 出願人：株式会社ニコン
反射マスクとその製造方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-104437 出願人：株式会社ニコン

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