特許

J-GLOBAL ID：200903000621294887

気密封止構造およびその製造方法

発明者： 高橋 勉 ,  大沼 恵則 ,  向井 伸幸 ,  小林 盛男
出願人/特許権者： 帝人製機株式会社
代理人 (1件)： 多田 敏雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-195599
公開番号（公開出願番号）：特開2000-028463
出願日： 1998年07月10日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【課題】 構造簡単でかつ安価としながら気密室43における気密を確実とする。【解決手段】 ガラス基板41にシリコン電極板46を陽極接合することで貫通孔44の内端開口を閉止した後、ガラス基板41、シリコン基板36同士を陽極接合して気密室43を形成するようにしているので、気密室43にアウトガスが発生するようなことはない。また、信号を取り出す導電性ピン50を前記貫通孔44に配置してシリコン電極板36に直接接続したので、構造が簡単となるとともに、ガラス、シリコン基板41、36同士の接合も確実となる。

請求項（抜粋）：

シリコン基板と、シリコン基板に陽極接合され、シリコン基板との間に形成された気密室に連通する貫通孔が設けられているガラス基板と、前記ガラス基板の内面に陽極接合により固定され、前記貫通孔の内端開口を気密状態で閉止するシリコン電極板と、前記貫通孔に配置され、シリコン電極板からの信号を外部に導く導電体とを備えたことを特徴とする気密封止構造。

IPC (3件)：

G01L 9/12 ,  H01L 23/02 ,  H01L 29/84

FI (3件)：

G01L 9/12 ,  H01L 23/02 B ,  H01L 29/84 Z

Fターム (17件)：

2F055BB01 ,  2F055BB08 ,  2F055CC02 ,  2F055DD05 ,  2F055DD07 ,  2F055EE25 ,  2F055FF43 ,  2F055GG01 ,  2F055GG12 ,  4M112AA01 ,  4M112BA07 ,  4M112CA02 ,  4M112CA11 ,  4M112CA16 ,  4M112DA18 ,  4M112EA02 ,  4M112EA13

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-009727
  
• 圧力センサ及び圧力センサの製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-004482   出願人：エンドレスウントハウザーゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツングウントコンパニー