特許

J-GLOBAL ID：200903000712809995

高分子成形体の凹凸状表面形成方法

発明者： 広津 敏博
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-110651
公開番号（公開出願番号）：特開平9-296057
出願日： 1996年05月01日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：

【要約】【課題】 フィルム、繊維、ブロック、粒体などの高分子成形体の表面に、多孔状や突起状などの所望の凹凸状構造を効率よく形成させる簡便な方法を提供する。【解決手段】 プラズマ分解性有機高分子材料とプラズマ非分解性有機高分子材料との混合物から成る成形体の表面にプラズマを照射し、表面に存在するプラズマ分解性有機高分子材料の少なくとも一部を分解除去することにより、凹凸状表面構造を形成させる。

請求項（抜粋）：

プラズマ分解性有機高分子材料とプラズマ非分解性有機高分子材料との混合物から成る成形体の表面にプラズマを照射し、表面に存在するプラズマ分解性有機高分子材料の少なくとも一部を分解除去することを特徴とする高分子成形体の凹凸状表面形成方法。

IPC (2件)：

C08J 7/00 306 ,  C08J 7/16

FI (2件)：

C08J 7/00 306 ,  C08J 7/16

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ポリマー・ブレンド膜の表面平坦化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-156323   出願人：富士通株式会社