ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 矢澤清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-066357
公開番号（公開出願番号）：特開2007-241108
出願日： 2006年03月10日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：

【課題】PEB温度依存性、ラインエッジラフネス(LWR)、ダーク/ブライトパターン形状差、現像欠陥、及びドライエッチング耐性について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有する繰り返し単位(A1)を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有さない繰り返し単位(B1)を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(D)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有する繰り返し単位(A1)を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有さない繰り返し単位(B1)を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(D)溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 , H01L 21/027 , C08F 220/10

FI (3件)：

G03F7/039 601 , H01L21/30 502R , C08F220/10

Fターム (34件)：

2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CC03 , 2H025FA17 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL26Q , 4J100AL31Q , 4J100AR32P , 4J100BA03Q , 4J100BA11P , 4J100BA40P , 4J100BC02Q , 4J100BC03Q , 4J100BC04Q , 4J100BC08Q , 4J100BC09Q , 4J100BC12Q , 4J100BC53P , 4J100BC84P , 4J100CA03 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-209680 出願人：富士写真フイルム株式会社

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