特許
J-GLOBAL ID：200903000778793496
磁気記録媒体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
松山 圭佑
, 高矢 諭
, 牧野 剛博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-367542
公開番号（公開出願番号）：特開2005-135455
出願日： 2003年10月28日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：
【課題】表面が充分に平坦で、且つ、記録・再生精度が良い凹凸パターンの記録層を有する磁気記録媒体を効率良く確実に製造することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】凹凸パターンの記録層32上にストップ膜42を形成するストップ膜形成工程と、ストップ膜42上に下側非磁性膜36Aを形成する下側非磁性膜形成工程と、下側非磁性膜36A上に上側非磁性膜36Bを形成する上側非磁性膜形成工程と、を含み、少なくとも上側非磁性膜形成工程において被加工体10にバイアスパワーを印加し、且つ、下側非磁性膜形成工程においてバイアスパワーを印加しないで、或いは上側非磁性膜形成工程よりもバイアスパワーを小さく抑制して凹凸パターンの凹部34に非磁性材36を充填するようにした。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
基板上に記録層が所定の凹凸パターンで形成され、該凹凸パターンの凹部が非磁性材で充填された磁気記録媒体の製造方法であって、
前記凹凸パターン上に下側非磁性膜を形成する下側非磁性膜形成工程と、前記下側非磁性膜上に上側非磁性膜を形成する上側非磁性膜形成工程と、を含み、少なくとも該上側非磁性膜形成工程において前記基板にバイアスパワーを印加し、且つ、前記下側非磁性膜形成工程において前記上側非磁性膜形成工程よりもバイアスパワーを小さく抑制して前記凹凸パターンの凹部に前記非磁性材を充填するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
5D112AA05
, 5D112AA18
, 5D112AA20
, 5D112AA24
, 5D112FA04
, 5D112FB04
, 5D112FB26
, 5D112GA02
, 5D112GA20
