特許

J-GLOBAL ID：200903000793260984

分割波長板フィルターの製造方法

発明者： 佐藤 晶司 ,  關澤 英彦
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (3件)： 逢坂 宏 ,  森 幸一 ,  松村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-168326
公開番号（公開出願番号）：特開2008-287273
出願日： 2008年06月27日
公開日（公表日）： 2008年11月27日
要約：

【課題】 立体画像表示装置の画素部に対して正確に対応するように、パターン精度や均一厚み、面内均一性に優れ、かつ再現性及び量産性の高い分割波長板フィルターの製造方法を提供すること。【解決手段】 分割波長板材料層3を第2の基体としての基板11上に印刷により形成し、第1の基体としての基板209上に所定パターンに接着剤層2aを形成し、この接着剤層2aを介して分割波長板材料層3を基板209に転写し、分割波長板208を転写によって形成する。これにより、均一厚み、面内均一性及び再現性のある分割波長板208を精度良く、量産性のある方法で製造できる。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

画像表示部において視差に対応して分割された各画像領域からそれぞれ得られた光の偏光方向を制御する分割波長板フィルターを製造する方法であって、 付着性の高い高付着層を第1の基体上に所定パターンに形成する工程と、 第2の基体上に分割波長板となる材料層を形成する工程と、 前記高付着層と前記材料層とを接触させた状態で前記第1の基体と前記第2の基体と を互いに圧接する工程と、 これらの基体を分離することにより、前記第1の基体の前記高付着層上にこれと同一 パターンに前記材料層を転写する工程と を有する、分割波長板フィルターの製造方法。

IPC (4件)：

G02B 27/26 ,  G02F 1/133 ,  G02F 1/13 ,  G02B 5/30

FI (4件)：

G02B27/26 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/13 505 ,  G02B5/30

Fターム (51件)：

2H088EA06 ,  2H088FA18 ,  2H088HA17 ,  2H088HA18 ,  2H088HA28 ,  2H088MA01 ,  2H088MA20 ,  2H149AA20 ,  2H149AB26 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB04 ,  2H149DB13 ,  2H149EA02 ,  2H149FA15Z ,  2H149FA23Y ,  2H149FA24Y ,  2H149FC08 ,  2H191FA22X ,  2H191FA22Z ,  2H191FA30X ,  2H191FA81Z ,  2H191FA94X ,  2H191FA95X ,  2H191FB04 ,  2H191FB05 ,  2H191FC10 ,  2H191FC13 ,  2H191FD04 ,  2H191FD12 ,  2H191FD35 ,  2H191FD36 ,  2H191GA08 ,  2H191GA22 ,  2H191GA23 ,  2H191LA13 ,  2H191LA21 ,  2H191LA40 ,  2H191MA01 ,  2H191PA41 ,  2H191PA50 ,  2H191PA59 ,  2H191PA62 ,  2H191PA84 ,  2H191PA87 ,  2H199AB45 ,  2H199AB66 ,  2H199BA03 ,  2H199BA63 ,  2H199BB16 ,  2H199BB65

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 偏光素子、位相差素子およびそれらの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-324464   出願人：シャープ株式会社

審査官引用 (3件)

• アレイシート、その製造方法、3次元表示装置および3次元像表示システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-163934   出願人：旭硝子株式会社
• 光学素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-287741   出願人：日本石油化学株式会社
• 偏光ビームスプリッタ用1/2波長板及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-362965   出願人：富士写真フイルム株式会社