特許

J-GLOBAL ID：200903000806889771

コーティング組成物

発明者： 横塚 俊亮 ,  松倉 郁生 ,  神谷 浩樹 ,  柏木 王明
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 泉名 謙治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-292051
公開番号（公開出願番号）：特開平11-124531
出願日： 1997年10月24日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：

【要約】【課題】フォトレジスト表面の反射防止膜として適切な低屈折率を有し、フォトレジスト現像時に現像液によって完全に除去できる該膜を形成できるコーティング組成物の提供。【解決手段】-CF2 CF(OCn F2nCOOM)-で表される単位、またはこの単位と-CF2 CFX-で表される単位を含むフッ素系重合体を含有する組成物。ただし、-COOMは-COOH、-COONH4 など。XはFまたはCl。

請求項（抜粋）：

下記式1で表される重合単位を含むフッ素系重合体または下記式1で表される重合単位と下記式2で表される重合単位とを含むフッ素系重合体を含有することを特徴とするコーティング組成物。【化1】-CF2 CF(ORfCOOM)- 式1-CF2 CFX- 式2[式中、Rfはエーテル性酸素原子を含んでもよい直鎖状または分岐状のペルフルオロアルキレン基、-COOMは-COOH、-COOY(Yは置換されていてもよいアンモニウムイオン)、または-COOH・Z(Zはアミン)、Xはフッ素原子または塩素原子である。]

IPC (4件)：

C09D129/10 ,  C09D127/12 ,  C09D133/16 ,  G03F 7/11 501

FI (4件)：

C09D129/10 ,  C09D127/12 ,  C09D133/16 ,  G03F 7/11 501

引用特許：

審査官引用 (2件)

• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-250201   出願人：旭硝子株式会社
• フルオロビニルエーテルを含む共重合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-147282   出願人：ダイキン工業株式会社