特許
J-GLOBAL ID：200903000829910484
投影システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
香取 孝雄
, 串田 幸一
, 鈴木 大介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-135583
公開番号（公開出願番号）：特開2006-314004
出願日： 2005年05月09日
公開日（公表日）： 2006年11月16日
要約：
【課題】曲面に対する表示範囲および高画質化を図りながら、安価で調整を容易にできる投影システムを提供。【解決手段】合成プロジェクタ10は、プロジェクタ12および14のそれぞれから分割した断片画像をリレーレンズ16および18に投射し、リレーレンズ16および18からの断片画像を合成調整器20で合成し、仮想的な焦点位置Aで平面の焦点画像を調整することにより焦点画像を高画質化し、この焦点画像を投影レンズ22から曲面に投影する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
投影装置からの画像を曲面に投影する投影システムにおいて、該システムは、
前記画像の分割数に応じて前記投影装置の台数を設け、前記投影装置のそれぞれから分割した断片画像を投射し、
前記投影装置のそれぞれからの入射光に対して焦点距離および倍率を調整する複数のリレー手段と、
投射される断片画像を基に一つの平面画像を仮想的な焦点画像として調整し合成する画像合成手段と、
前記焦点画像を前記曲面に投影する投影光学手段とを含むことを特徴とする投影システム。
IPC (3件)：
H04N 5/74
, G03B 21/00
, G03B 37/00
H04N5/74 Z
, G03B21/00 D
, G03B37/00 Z
2H059BA03
, 2H059BA12
, 2K103AA16
, 2K103AA18
, 2K103AB10
, 2K103BC03
, 2K103BC23
, 2K103BC43
, 2K103BC44
, 2K103CA02
, 2K103CA19
, 5C058EA03
, 5C058EA13
, 5C058EA26
, 5C058EA33
, 5C058EA42
