特許
J-GLOBAL ID:200903000841772275

ろ過槽にヒ素除去機能を付与する方法、地下水対象の水処理方法、及び、地下水対象の水処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小林 良平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-226679
公開番号(公開出願番号):特開2004-066065
出願日: 2002年08月02日
公開日(公表日): 2004年03月04日
要約:
【課題】ろ過能力を低コストで維持でき、廃棄物排出量が少なく、凝集剤やろ材の再生処理用の薬剤が不要で環境に優しい方法で地下水からヒ素を除去する機能をろ過槽に付与する。【解決手段】ろ過槽18内に、粒径5〜8mmで500〜700m2/m3以上の比表面積を有するろ材22でろ層を形成し、そこに地下水を十分長い時間流すと、ろ材22の表面、ろ材22の孔の内部及びろ材間の空隙23でバクテリアが増殖する。このバクテリアが産生する酵素の作用により水中の溶解性ヒ素(三価ヒ素)が粒子状の五価ヒ素に変化する。この五価ヒ素が、同じくバクテリアが産生する粘着性の多糖タンパクに吸着されて凝集し、ろ層22に捕捉される。こうして、水からのヒ素の除去が達成される。逆洗ポンプ30を運転すると、ろ過槽18内に上向きの水流が発生し、ろ層22が逆洗される。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
a)空隙率が所定範囲となるようなろ材をろ過槽に充填する手順、 b)ヒ素酸化バクテリアを含む地下水を汲み上げ、酸素濃度を所定値以上にする手順、 c)地下水を、その温度及びpHを一定範囲内に保ちながらろ過槽に一定流速で流す手順、及び、 d)少なくともろ材表面及びろ材間の空隙に棲息及び増殖するヒ素酸化バクテリアによるヒ素の接触酸化作用が現れるまで上記条件で馴致運転する手順 を備えることを特徴とする、ろ過槽にヒ素除去機能を付与する方法。
IPC (3件):
C02F3/34 ,  C02F3/06 ,  C02F3/10
FI (3件):
C02F3/34 Z ,  C02F3/06 ,  C02F3/10 A
Fターム (13件):
4D003AA02 ,  4D003AB02 ,  4D003BA02 ,  4D003CA02 ,  4D003DA09 ,  4D003DA22 ,  4D003EA01 ,  4D003EA14 ,  4D003EA24 ,  4D003FA01 ,  4D040DD03 ,  4D040DD20 ,  4D040DD31
引用特許:
審査官引用 (4件)
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