特許
J-GLOBAL ID：200903000904757115
投影露光装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-141323
公開番号（公開出願番号）：特開平7-074093
出願日： 1994年06月23日
公開日（公表日）： 1995年03月17日
要約：
【要約】【目的】 ショット領域内に凹凸が存在していても、常に高精度な焦点検出を行うことが可能な投影露光装置及び方法を提供する。【構成】 感光基板を保持して投影光学系の光軸方向、及び光軸(AX)に垂直な方向に移動可能なステージに基準部材(FM)が設けられ、この基準部材(FM)には、投影光学系(PL)の光軸に垂直な平面内の所定方向に関して互いに反射率が異なる少なくとも2つの領域を有する基準パターン(30x、30y)が設けられている。パターン位置検出手段は、焦点検出系(15〜21)が基準部材上に投射するパターン像と基準パターンとを所定の方向に相対移動させたときの焦点検出系から出力される光電信号の強度変化に基づいて、光軸(AX)に垂直な平面内におけるパターン像の位置を検出する。このパターン像の位置に基づいて、移動手段(18a、16)はパターン像の位置を光軸(AX)に垂直な平面内の所定の設定位置に配置する。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンを感光基板上に結像投影する投影光学系と、前記感光基板を保持して前記投影光学系の光軸方向、及び該光軸に垂直な方向に移動可能なステージと、前記感光基板上における前記ステージの移動位置を規定する静止座標系上の所定の設定位置にパターン像を投射するとともに、前記感光基板からの反射光を光電検出することによって、前記投影光学系の結像面と前記感光基板の表面との前記投影光学系の光軸方向の偏差に応じた検出信号を出力する焦点検出手段と、前記検出信号に基づいて前記ステージの前記光軸方向における位置を制御する制御手段とを備えた投影露光装置において、前記ステージの一部に配置され、前記光軸に垂直な平面内の所定方向に関して互いに反射率が異なる少なくとも2つの領域を有する基準パターンが設けられた基準部材と、前記基準パターンと前記パターン像とを前記所定方向に相対移動したときに前記焦点検出手段から出力される検出信号の強度変化に基づいて、前記静止座標系上における前記パターン像の形成位置を検出するパターン位置検出手段と、前記パターン位置検出手段によって求められた前記パターン像の形成位置と前記設定位置とに基づいて、前記設定位置に前記パターン像が形成されるように前記パターン像の形成位置を移動させる移動手段とを有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/207
, G03F 9/02
