特許

J-GLOBAL ID：200903000911780777

プロセス管理システム

発明者： 水野 文夫 ,  磯貝 静志 ,  渡辺 健二 ,  吉武 康裕 ,  浅川 輝重 ,  大山 祐一 ,  杉本 秀邦 ,  石川 誠二 ,  芝 正孝 ,  中里 純 ,  有賀 誠 ,  横内 哲司 ,  浜田 利満 ,  鈴木 郁雄 ,  井古田 まさみ ,  野副 真理 ,  宮崎 功 ,  執行 義春
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立計測エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 高田 幸彦 (外1名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1997000898
公開番号（公開出願番号）：WO1997-035337
出願日： 1997年03月19日
公開日（公表日）： 1997年09月25日
要約：

【要約】本発明は、ウェハ上の欠陥を検査する検査装置が通信ネットワークを介して接続され、これら装置で得られた検査情報や画像情報を収集し、データベースや画像ファイルを構築するプロセス管理システムであって、検査装置で得られた検査情報や画像情報に基づいて、欠陥を特徴づける要素の組み合わせによる欠陥の定義づけを行うためのプロセス管理システムである。このような欠陥の定義づけを行うことによって欠陥が持つ特徴を細分して把握することが可能になるので如何なる原因に基づいて欠陥が発生しているのか、その原因の究明が容易になる。

請求項（抜粋）：

複数の製造プロセス間に設けられたウェハ上の欠陥を検査する検査装置が通信ネットワークを介して接続され、これら装置で得られた検査情報や画像情報を収集し、データベースや画像ファイルを構築するプロセス管理システムであって、前記検査装置で得られた欠陥の検査結果や画像情報に基づいて、欠陥を特徴づける要素の組み合わせによる欠陥の分類を行う手段を備えたことを特徴とするプロセス管理システム

IPC (6件)：

H01L 21/66 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/88 ,  G06F 15/00 ,  H04K 1/00 ,  G09C 1/00