特許
J-GLOBAL ID：200903000911801960

高純度水素ガス製造用PSA装置

発明者：
中尾 昇

中尾 昇 について

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山下 岳史

山下 岳史 について

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藤澤 彰利

藤澤 彰利 について

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由良 慶太

由良 慶太 について


出願人/特許権者：
株式会社神戸製鋼所

株式会社神戸製鋼所 について


代理人 (3件)： 梶 良之 ,  須原 誠 ,  竹中 芳通
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-239208
公開番号（公開出願番号）：特開2008-063152
出願日： 2006年09月04日
公開日（公表日）： 2008年03月21日
要約：
【課題】水素含有ガスから高い回収率で高純度の水素ガスを回収し、かつ設備のコンパクト化、すなわち設備コストの低減に寄与しうる高純度水素ガス製造用PSA装置を提供する。【解決手段】水素含有ガスAからCOガスを含む不要ガスを吸着除去して高純度水素ガスBを製造するPSA装置において、PSA装置の吸着塔1内に、ゼオライト層を設けることなく、水素含有ガスAの流通方向の上流側から下流側に向かって、CO2を実質的に吸着しないCO吸着剤層5、CO2を吸着するための炭素系吸着剤層4の順序で積層した吸着剤床2を設け、吸着剤床2の再生時には、洗浄ガスCを炭素系吸着剤層4、CO吸着剤層5の順に流通させるように構成したことを特徴とする高純度水素ガス製造用PSA装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
水素含有ガスからCOガスを含む不要ガスを吸着除去して高純度水素ガスを製造するPSA装置において、PSA装置の吸着塔内に、ゼオライト層を設けることなく、前記水素含有ガスの流通方向の上流側から下流側に向かって、CO2を実質的に吸着しないCO吸着剤層、CO2を吸着するための炭素系吸着剤層の順序で積層した吸着剤床を設け、前記吸着剤床の再生時には、洗浄ガスを前記炭素系吸着剤層、前記CO吸着剤層の順に流通させるように構成したことを特徴とする高純度水素ガス製造用PSA装置。
IPC (4件)：
C01B 3/56 ,  B01D 53/04 ,  B01D 53/02 ,  B01J 20/02
FI (4件)：
C01B3/56 Z ,  B01D53/04 B ,  B01D53/02 Z ,  B01J20/02 A
Fターム (20件)：
4D012BA01 ,  4D012CA07 ,  4D012CB13 ,  4D012CD07 ,  4D012CE01 ,  4D012CF03 ,  4D012CG01 ,  4G066AA20C ,  4G066AA22C ,  4G066AA32B ,  4G066AC14C ,  4G066CA35 ,  4G066DA04 ,  4G066GA06 ,  4G066GA14 ,  4G140FA02 ,  4G140FB02 ,  4G140FB04 ,  4G140FB05 ,  4G140FC03
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (6件)
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