特許
J-GLOBAL ID：200903000920812452
低プロファイルバルーン及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-167995
公開番号（公開出願番号）：特開平10-015055
出願日： 1996年06月27日
公開日（公表日）： 1998年01月20日
要約：
【要約】【課題】 血管系、消化管系、胆道系、尿路系等の管腔臓器の狭窄部の拡張治療用バルーンとして、低プロファイル化を実現したバルーンを備え、挿入操作性の良好なバルーンカテーテルを提供する。【解決手段】 少なくとも20MPaの100%引張応力を有するポリウレタンエラストマーよりなるパリソンを1.4〜3.5倍に伸長した後にバルーン金型内に導入し、パリソン内に0.3〜2.0MPaの圧力を加えた状態で、金型の温度を前記ポリウレタンエラストマーのガラス転移点より高く、融点より低い温度に加熱してポリウレタンエラストマーを軟化してパリソンを膨張し、バルーン金型に接触、押圧して成形した後、圧力を開放し、前記ポリウレタンエラストマーのガラス転移点より高く、融点より低い温度で熱処理する。【効果】 本発明により提供されるバルーンは、バルーンのラッピングに起因するかさばりを低減、もしくはなくすことが可能であり、優れた挿入操作性を有するバルーンカテーテルを実現する手段として極めて有用である。
請求項（抜粋）：
熱可塑性エラストマーよりなり、加圧しない時の膨張外径が意図した膨張外径の50〜80%であり、少なくとも0.5MPaで加圧することにより意図した膨張外径まで膨らみ、その膨張径を維持することを特徴とする低プロファイルバルーン。
IPC (2件)：
FI (3件)：
A61L 29/00 W
, A61M 25/00 410 B
, A61M 25/00 410 H
