特許
J-GLOBAL ID:200903000930922523
酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤並びに処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
羽鳥 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-280234
公開番号(公開出願番号):特開2005-040766
出願日: 2003年07月25日
公開日(公表日): 2005年02月17日
要約:
【課題】 真空下での製造プロセスから発生する酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスを高効率で除害でき、且つ製造装置の真空度が低下したり真空ポンプが腐食することがなく、しかも長寿命で作業性の良い、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤並びに処理方法を提供すること。【解決手段】 アミンの無機酸塩及び活性炭からなる、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤。該処理剤に、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスを真空下で接触させることにより、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスを処理する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
アミンの無機酸塩及び活性炭からなる、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤。
IPC (4件):
B01D53/68
, B01D53/72
, B01J20/22
, B01J20/28
FI (4件):
B01D53/34 134C
, B01J20/22 A
, B01J20/28 Z
, B01D53/34 120D
Fターム (27件):
4D002AA17
, 4D002AA22
, 4D002AA23
, 4D002AA28
, 4D002AA33
, 4D002AC10
, 4D002BA03
, 4D002BA04
, 4D002CA07
, 4D002DA31
, 4D002DA41
, 4D002GA01
, 4D002GB08
, 4D002GB12
, 4D002GB20
, 4G066AA05B
, 4G066AA05C
, 4G066AB13B
, 4G066BA09
, 4G066BA20
, 4G066BA25
, 4G066BA26
, 4G066CA31
, 4G066CA32
, 4G066CA51
, 4G066DA02
, 4G066FA37
引用特許:
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