スパッタ成膜用の膜厚補正機構

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田宮寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-143175
公開番号（公開出願番号）：特開平10-317135
出願日： 1997年05月16日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：

【要約】【課題】スパッタ法で光学レンズ基材の表面に薄膜を形成する場合に、表面での膜厚分布を均一にできる膜厚補正機構を提供する。【解決手段】複数の光学レンズ基材11が、横置きされかつ回転状態にある円形平板の基板ホルダ26に横置き状態で同心円位置で配置される。成膜装置はターゲット31を備える。膜厚補正板51,52 は、ターゲットと基板ホルダの間に配置された膜厚差調整用マスク部材である。この構成により、基板ホルダにおいて同心円位置に配置された多数の光学レンズ基材について、同心円間の光学レンズ基材で膜厚差を小さくし、膜厚分布を均一にする。

請求項（抜粋）：

スパッタ法で光学レンズ基材の表面に薄膜を形成する成膜装置に用いられ、前記薄膜の膜厚差を補正する膜厚補正板を備えることを特徴とするスパッタ成膜用の膜厚補正機構。

IPC (3件)：

C23C 14/34 , C23C 14/08 , G02B 1/10

FI (3件)：

C23C 14/34 U , C23C 14/08 N , G02B 1/10 Z

引用特許：

審査官引用 (15件)

薄膜蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-359638 出願人：キヤノン株式会社
薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-275840 出願人：オリンパス光学工業株式会社
特表平3-505611

全件表示

前のページに戻る