露光方法及びその露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：船橋國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-197384
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045809
出願日： 1994年07月29日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】断線のない半導体デバイスパターンの形成が可能な露光方法及びその装置を提供する。【構成】隣接し合う露光フィールドの境界部分で分断され、この分断された部分を互いに接続させて2つの露光フィールドにまたがって形成されるパターンを半導体基板上に形成する露光方法であって、前記2つの露光フィールド内にそれぞれ設けられるパターンの終端が前記露光フィールドの境界部分で互いにオーバーラップするようにして前記パターンを露光するようにした。

請求項（抜粋）：

隣接し合う露光フィールドの境界部分で分断され、この分断された部分を互いに接続させて2つの露光フィールドにまたがって設けられるパターンを半導体基板上に形成する露光方法において、前記2つの露光フィールド内にそれぞれ設けられるパターンの終端が前記露光フィールドの境界部分で互いにオーバーラップするようにして前記パターンを露光することを特徴とする露光方法。

引用特許：

審査官引用 (5件)

電子線描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-059902 出願人：株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社
特開平1-094619
特開昭60-130826

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