研磨材

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：細田芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-175226
公開番号（公開出願番号）：特開2001-003034
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：

【要約】【課題】研磨性、耐傷つき性等の研磨特性及び透明性に優れた研磨材及び該研磨材を含有してなる洗浄剤を提供すること。【解決手段】トリジマイト及び/又はクリストバライトの結晶相を有する結晶からなる研磨材、並びに該研磨材を含有してなる洗浄剤。

請求項（抜粋）：

トリジマイト及び/又はクリストバライトの結晶相を有する結晶からなる研磨材。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 , C01B 33/12 , C11D 3/14

FI (3件)：

C09K 3/14 550 D , C01B 33/12 B , C11D 3/14

Fターム (30件)：

4G072AA25 , 4G072AA35 , 4G072BB05 , 4G072DD03 , 4G072DD04 , 4G072DD05 , 4G072GG02 , 4G072HH14 , 4G072HH23 , 4G072HH36 , 4G072MM01 , 4G072MM02 , 4G072MM26 , 4G072MM36 , 4G072RR13 , 4G072TT01 , 4G072TT30 , 4G072UU30 , 4H003BA10 , 4H003DA06 , 4H003DA08 , 4H003DA09 , 4H003DA17 , 4H003DA20 , 4H003EA24 , 4H003EA25 , 4H003EA27 , 4H003FA05 , 4H003FA10 , 4H003FA15

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭59-093798
微細な結晶質シリカの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-035047 出願人：富士化学株式会社
電子写真感光体用リファイナー及びリファイニング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-041798 出願人：コニカ株式会社

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