特許

J-GLOBAL ID：200903001175829344

レジスト用剥離液組成物

発明者： 脇屋 和正 ,  小林 政一 ,  原田 庸一郎 ,  田中 初幸 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-211525
公開番号（公開出願番号）：特開平7-064297
出願日： 1993年08月26日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：

【要約】【構成】 (A)有機アミン類、(B)一般式【化1】(式中のR1は水素原子又は低級アルキル基、R2は水素原子、低級アルキル基又は低級ヒドロキシアルキル基である)で表わされるアセチレンアルコール及びそのエチレンオキシド付加物の中から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤、(C)非プロトン性極性溶剤及び(D)水から成るレジスト用剥離液である。【効果】 この剥離液は、不燃性であり、低温においてホトレジスト膜特に変質された膜に対して優れた剥離作用を示し、しかも腐食性が低く水洗のみにより容易に除去できるという利点を有する。

請求項（抜粋）：

(A)有機アミン類、(B)一般式【化1】(式中のR1は水素原子又は低級アルキル基、R2は水素原子、低級アルキル基又は低級ヒドロキシアルキル基である)で表わされるアセチレンアルコール及びそのエチレンオキシド付加物の中から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤、(C)非プロトン性極性溶剤及び(D)水から成るレジスト用剥離液組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開昭64-088548
  
• 特開昭64-081950
  
• 特開昭64-081949
  
• 有機ストリツピング組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-010812   出願人：アクト,インク.
• 特開昭64-073348
  
• 特開昭63-056921