特許
J-GLOBAL ID:200903001187240338

薄膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 蔦田 璋子 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-230100
公開番号(公開出願番号):特開平6-073535
出願日: 1992年08月28日
公開日(公表日): 1994年03月15日
要約:
【要約】【構成】 レーザーアブレーション法を用いて薄膜を製造する方法であって、パルスレーザー光の発振信号に同期してターゲット12とレーザー光導入窓20との間の光路24にガスパルスを噴射し、レーザー光導入窓20へのターゲット材料の付着を防止する。【効果】 レーザー光導入窓へのターゲット材料の付着が有効に防止されることにより、レーザー光の透過率が下がらず、長時間の連続成膜が可能である。また、レーザー光導入窓を研磨する費用が大幅に減少する。
請求項(抜粋):
レーザーアブレーション法を用いて薄膜を製造する方法であって、パルスレーザー光の発振信号に同期してターゲットとレーザー光導入窓との間の光路にガスパルスを噴射し、レーザー光導入窓へのターゲット材料の付着を防止することを特徴とする薄膜の製造方法。
IPC (3件):
C23C 14/28 ,  H01L 21/205 ,  H01S 3/00
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 特開平2-298261
  • 特開平4-187761
  • 特開昭58-042770
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