特許

J-GLOBAL ID：200903001239753746

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： 竹下 優 ,  渡部 良司 ,  岩井 武
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-211890
公開番号（公開出願番号）：特開2008-026838
出願日： 2006年08月03日
公開日（公表日）： 2008年02月07日
要約：

【課題】焦点深度幅(DOF)特性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】樹脂成分(A)と酸発生剤成分(B)とを含有し、前記酸発生剤成分(B)は、一般式(b’-1)で表されるカチオン部と、一般式(b-3)および/または(b-4)で表されるアニオン部とを有する酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b’-1)

IPC (3件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (12件)：

2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-201310   出願人：東京応化工業株式会社