特許
J-GLOBAL ID：200903071329098192
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
棚井 澄雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-201310
公開番号（公開出願番号）：特開2003-241385
出願日： 2002年07月10日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：
【要約】【課題】 エッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネスが少なく、解像性に優れ、焦点深度幅が広い、化学増幅型のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】 エステル側鎖部に多環式基含有酸解離性溶解抑制基を有し、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有する、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記(A)成分が、メタアクリル酸エステルから誘導される構成単位とアクリル酸エステルから誘導される構成単位とを、共に有するポジ型レジスト組成物を製造する。
請求項（抜粋）：
エステル側鎖部に多環式基含有酸解離性溶解抑制基を有し、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有する、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記(A)成分が、メタアクリル酸エステルから誘導される構成単位とアクリル酸エステルから誘導される構成単位とを、共に有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H01L 21/30 502 R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CC03
, 2H025FA01
, 2H025FA12
出願人引用 (13件)
全件表示
審査官引用 (13件)
全件表示
前のページに戻る
