特許

J-GLOBAL ID：200903001250086530

分解対象ガス分解装置

発明者： 中澤 美和 ,  保坂 明仁 ,  宮村 啓祐 ,  太田 俊
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-359222
公開番号（公開出願番号）：特開2005-120054
出願日： 2003年10月20日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：

【課題】 反応生成物を反応空間に溜めないようにすることを目的とする。【解決手段】 反応生成物液体を回収保持できるように容器を傾けて配置する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

塩素ガスを発生させる塩素ガス導入手段と、前記塩素ガスと分解対象物質ガスとの混合ガスを収容する容器と、前記容器内の前記混合ガスに光を照射する光源とを有する分解対象ガス分解装置において、 前記容器は混合ガスを導入する入口とガスを排出する出口とを有し、且つ入口側以外で反応生成液体を回収保持できるように傾いて配置されていることを特徴とする分解対象ガス分解装置。

IPC (4件)：

C07B35/06 ,  B01D53/32 ,  B01J19/12 ,  C07B37/06

FI (4件)：

C07B35/06 ,  B01D53/32 ,  B01J19/12 C ,  C07B37/06

Fターム (13件)：

4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075AA63 ,  4G075BA05 ,  4G075BB05 ,  4G075BD12 ,  4G075CA32 ,  4G075CA57 ,  4G075EB21 ,  4H006AA05 ,  4H006AC13 ,  4H006AC26 ,  4H006BA95

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 汚染物質の分解方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-354344   出願人：キヤノン株式会社