特許
J-GLOBAL ID:200903001254072739
レーザーアブレーション装置用の試料室およびレーザーアブレーション装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 阿部 豊隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-123896
公開番号(公開出願番号):特開2004-325390
出願日: 2003年04月28日
公開日(公表日): 2004年11月18日
要約:
【課題】分析装置への導入効率が高いレーザーアブレーション装置用の試料室およびレーザーアブレーション装置を提供すること。【解決手段】レーザーアブレーション装置用の試料室4は、対向する側壁4a,4bに駆動手段50がそれぞれ接続されており、この駆動手段50によって側壁4a,4bが試料9に対して近づく或いは遠ざかる方向(図中、左右方向)に移動可能となっている。これにより、試料室4は、側壁4a,4bの移動によって内部空間の容積が変化可能となっている。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
内部空間に測定対象の試料が配置されるレーザーアブレーション装置用の試料室であって、
前記内部空間の容積を変化させる容積可変機構を有することを特徴とするレーザーアブレーション装置用の試料室。
IPC (3件):
G01N1/22
, G01N1/00
, G01N27/62
FI (3件):
G01N1/22 T
, G01N1/00 101R
, G01N27/62 F
Fターム (13件):
2G052AD26
, 2G052AD32
, 2G052AD42
, 2G052CA03
, 2G052CA04
, 2G052CA14
, 2G052DA13
, 2G052EB01
, 2G052EB02
, 2G052EB11
, 2G052FD07
, 2G052GA24
, 2G052JA07
引用特許: