特許

J-GLOBAL ID：200903001296255221

液浸型露光装置および液浸型露光方法

発明者： 宮下 直幸
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-046132
公開番号（公開出願番号）：特開2007-227580
出願日： 2006年02月23日
公開日（公表日）： 2007年09月06日
要約：

【課題】液浸リソグラフィにおいて、マイクロバブルやウォーターマーク等のいずれの欠陥についても、これらを確実に抑制し得るようにする。【解決手段】ウエハ基板2上に形成されたレジスト膜1と当該レジスト膜1に対する露光を行う投影光学系3との間に液浸液を介在させて液浸リソグラフィを行う液浸型露光装置において、前記液浸液を帯電させる帯電手段5と、前記液浸液に対する除電を行う除電手段6とを備える。そして、液浸液の帯電と除電とを露光シーケンスに組み込むことにより、その液浸液をレジスト膜1との関係において親水的作用状態または疎水的作用状態に遷移させ得るようにする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ウエハ基板上に形成されたレジスト膜と当該レジスト膜に対する露光を行う投影光学系との間に液浸液を介在させて液浸リソグラフィを行う液浸型露光装置であって、 前記液浸液を帯電させる帯電手段と、 前記液浸液に対する除電を行う除電手段と を備えることを特徴とする液浸型露光装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 515D

Fターム (4件)：

5F046BA04 ,  5F046CA04 ,  5F046DA07 ,  5F046DA30

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン