特許
J-GLOBAL ID:200903001307485950

ペリクル膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 亮一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-183089
公開番号(公開出願番号):特開平10-026822
出願日: 1996年07月12日
公開日(公表日): 1998年01月27日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 水中剥離法のような汚染がなく、また、水蒸気剥離法のように特別の装置も必要としないで剥離が可能となり、目的とするペリクル膜を容易に、且つ効率よく安価に得る方法。【解決手段】 基板上に形成させたペリクル膜を基板表面から剥離させるペリクル膜の製造方法において、基板上の膜の剥離部に空気イオン化装置で発生させたイオンを照射しながら、ペリクル膜を剥離させることを特徴とするペリクル膜の製造方法。
請求項(抜粋):
基板上に形成させたペリクル膜を基板表面から剥離させるペリクル膜の製造方法において、基板上のペリクル膜の剥離部に空気イオン化装置で発生させたイオンを照射しながら、ペリクル膜を剥離させることを特徴とするペリクル膜の製造方法。
IPC (2件):
G03F 1/14 ,  H01L 21/027
FI (2件):
G03F 1/14 J ,  H01L 21/30 502 P
引用特許:
審査官引用 (2件)

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