N,N-二置換スルホンアミド化合物およびその化合物を使用して製造された放射線感応性混合物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-311775
公開番号（公開出願番号）：特開平6-263716
出願日： 1993年12月13日
公開日（公表日）： 1994年09月20日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】オフセット印刷板およびフォトレジストの製造に特に好適である化合物ならびにその混合物の提供。【構成】一般式R1 [-N(CO-OR2 )-SO2 -R3 ]n (I)またはR1 [-SO2 -N(CO-OR2 )-R3 ]n (II)のN,N-二置換スルホンアミド化合物ならびに、a)化学線放射の影響下で酸を形成する化合物、b)酸により開裂し得る化合物であって、その開裂生成物その出発化合物よりが水性-アルカリ性現像剤中で高い溶解性を有する化合物、およびc)水には不溶であるが、アルカリ水溶液中に可溶であるか、または少なくとも膨潤し得る重合体バインダーを含む放射線感応性混合物であって、化合物b)が一般式IまたはIIのスルホンアミド化合物である混合物。一般式IとIIの化合物の具体例にはそれぞれN-メチル-N-t-ブチルオキシカルボニル-p-トリルスルホンアミドと4,4′-ビス(N-n-プロピル-N-t-ブチルオキシカルボニル-スルホンアミド)ビフェニルがある。

請求項（抜粋）：

式R1 [-N(CO-OR2 )-SO2 -R3 ]n (I)またはR1 [-SO2 -N(CO-OR2 )-R3 ]n (II)のN,N-二置換スルホンアミド(式中、R1 は、n=1に対しては、(C1 〜C20)アルキル、(C3 〜C10)シクロアルキル、(C6 〜C14)アリールまたは(C7 〜C20)アラルキル基であり、アルキルを含む基中の個々のメチレン基は所望によりヘテロ原子により置換されており、n=2、3または4に対しては、(C1 〜C20)アルカンまたは(C5 〜C7 )シクロアルカンのn価の基であり、n価の(C3 〜C20)アルカン基中の個々のメチレン基は所望によりヘテロ原子により、(C5 〜C7 )シクロアルキレン基により、またはフェニレンにより置換されているか、あるいは非縮合または縮合の単核または多核(C6 〜C18)芳香族化合物のn価の基であり、R2 は(C3 〜C11)アルキル、(C3 〜C11)アルケニルまたは(C7 〜C11)アラルキル基であり、R3 は非置換または置換(C1 〜C6 )アルキル、(C3 〜C6 )シクロアルキル、(C6 〜C14)アリールまたは(C7 〜C20)アラルキル基であり、nは1〜4の整数である。)

IPC (4件)：

C07C311/16 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭63-221177
特開昭54-117026
N,N-二置換スルホンアミド懸垂基を有する重合体およびその使用
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-311773 出願人：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト

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引用文献：

審査官引用 (2件)

Chemical Abstracts, (1987), Vol.107, abstract No.77391
Chemical Abstracts, (1989), Vol.111, abstract No.57211

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