特許

J-GLOBAL ID：200903001337824945

ノボラック型フェノール樹脂の製造方法

発明者： 有田 靖 ,  西佐古 宏志 ,  大西 治
出願人/特許権者： 住友デュレズ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-053265
公開番号（公開出願番号）：特開平11-246643
出願日： 1998年03月05日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：

【要約】【課題】 従来の方法では得られなかった高分子量、低モノマ-、低2核体のノボラック型フェノール樹脂を得ること。【解決手段】 フェノール類とアルデヒド類を酸性触媒の存在下反応(一次反応)した後、1核体(モノマ-)と2核体を除去することによりモノマ-と2核体の合計含有量が3%以下で重量平均分子量が1000-3500となるように低分子量ノボラック型フェノール樹脂を合成した後、ノボラック型フェノール樹脂を溶解しうる反応溶媒の存在下、アルデヒド類を加えてさらに反応(二次反応)させて、モノマ-と2核体の合計含有量が3%以下で重量平均分子量が3500〜50000のノボラック型フェノール樹脂を得る。

請求項（抜粋）：

フェノール類とアルデヒド類を酸性触媒の存在下反応(1次反応)した後、1核体(モノマ-)と2核体を除去することによりモノマ-と2核体の合計含有量が3%以下で重量平均分子量が1000-3500となるように低分子量ノボラック型フェノール樹脂を合成した後、ノボラック型フェノール樹脂を溶解しうる溶媒の存在下、アルデヒド類を加えてさらに反応(2次反応)させることを特徴とするモノマ-と2核体の合計含有量が3%以下で重量平均分子量が3500〜50000のノボラック型フェノール樹脂の製造方法。

IPC (2件)：

C08G 8/10 ,  C08L 61/10

FI (2件)：

C08G 8/10 ,  C08L 61/10

引用特許：

出願人引用 (3件)

• メチル置換ポリアルキリデンポリフェノール類の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-218719   出願人：ビアノバ・レジンス・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング
• フォトレジスト用クレゾールノボラック樹脂の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-290154   出願人：住友デュレズ株式会社
• 特開昭62-275121
  

審査官引用 (4件)

• フォトレジスト用クレゾールノボラック樹脂の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-290154   出願人：住友デュレズ株式会社
• メチル置換ポリアルキリデンポリフェノール類の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-218719   出願人：ビアノバ・レジンス・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング
• 特開平3-103417
  
• 特開昭62-275121