特許
J-GLOBAL ID:200903001342623915

テラヘルツ帯光学フィルタおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 小森 久夫 ,  村上 辰一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-379548
公開番号(公開出願番号):特開2007-178886
出願日: 2005年12月28日
公開日(公表日): 2007年07月12日
要約:
【課題】少ない積層数で低コストに製造でき、且つ波長選択性が高い所望の帯域通過特性を有する多重キャビティ型のテラヘルツ帯光学フィルタを得る。【解決手段】第1のキャビティ層11の両端を、屈折率比が2以上となる高屈折率媒質1および低屈折率媒質2の層を1層ずつ積層してなる基本格子3で挟み、この基本格子3のさらに両端に、光路長が通過中心周波数での1/2波長の整数倍であり、第1のキャビティ層11に用いる低屈折率媒質4より屈折率の高い高屈折率媒質5からなる第2・第3のキャビティ層12,13を配置して誘電体多層周期構造体を成す。【選択図】図1
請求項(抜粋):
テラヘルツ帯で帯域通過特性を有する誘電体多層周期構造を備えたフィルタであって、 光路長が通過中心周波数での1/2波長の整数倍であり、低屈折率媒質からなる第1のキャビティ層を備え、該第1のキャビティ層の両端を、光路長がそれぞれ1/4波長であり、屈折率比が2以上となる高屈折率媒質および低屈折率媒質の層を1層ずつ積層してなる基本格子で挟み、この基本格子のさらに両端に、光路長が通過中心周波数での1/2波長の整数倍であり、前記第1のキャビティ層に用いる低屈折率媒質より屈折率の高い高屈折率媒質からなる第2・第3のキャビティ層を配置して誘電体多層周期構造体を成したことを特徴とするテラヘルツ帯光学フィルタ。
IPC (1件):
G02B 5/28
FI (1件):
G02B5/28
Fターム (5件):
2H048GA04 ,  2H048GA13 ,  2H048GA30 ,  2H048GA32 ,  2H048GA62
引用特許:
出願人引用 (3件)

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