特許
J-GLOBAL ID:200903001346253780

排ガス浄化用触媒及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-346152
公開番号(公開出願番号):特開2007-144371
出願日: 2005年11月30日
公開日(公表日): 2007年06月14日
要約:
【課題】スートの堆積及びアッシュの堆積を防止するとともに、スートの浄化率を向上させる。【解決手段】ウォールフロー構造のフィルタ基材1の少なくとも流入側セル10側のセル隔壁12表面に触媒層2を形成し、触媒層2を構成する多孔質酸化物の二次粒子の平均粒子径をセル隔壁12の平均細孔径の2〜8倍とした。 触媒層2の表面は段差の大きな凹凸形状となるので、スートは触媒層2の表面の凸部に衝突して凹部に捕捉され、触媒層2の表面に堆積する。スートと触媒金属との接触性が高いのでスート浄化率が向上し、スートの過剰な堆積が防止される。また触媒層2の表面に堆積したアッシュは、排ガス流によって粉砕され微細化されて排出されるので、排気圧損の上昇が抑制される。【選択図】図3
請求項(抜粋):
排ガス下流側で目詰めされた流入側セルと、該流入側セルに隣接し排ガス上流側で目詰めされた流出側セルと、該流入側セルと該流出側セルを区画し多数の細孔を有する多孔質のセル隔壁とを有するウォールフロー構造のフィルタ基材と、 該セル隔壁の少なくとも該流入側セル側の表面に形成され多孔質酸化物に触媒金属を担持した触媒層と、を含み、 該触媒層を構成する該多孔質酸化物の二次粒子の平均粒子径は該セル隔壁の平均細孔径の2〜8倍であることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (8件):
B01J 35/04 ,  B01J 37/02 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/94 ,  F01N 3/02 ,  B01D 39/20 ,  B01D 39/14 ,  B01D 46/00
FI (10件):
B01J35/04 301E ,  B01J35/04 301M ,  B01J37/02 301A ,  B01D53/36 C ,  B01D53/36 104B ,  F01N3/02 321A ,  F01N3/02 301C ,  B01D39/20 D ,  B01D39/14 B ,  B01D46/00 302
Fターム (43件):
3G090AA03 ,  4D019AA01 ,  4D019BA05 ,  4D019BB06 ,  4D019BC07 ,  4D019CA01 ,  4D019CB04 ,  4D019CB06 ,  4D048AA14 ,  4D048AB01 ,  4D048BA05X ,  4D048BA06X ,  4D048BA10X ,  4D048BB02 ,  4D048BB14 ,  4D048BB17 ,  4D058JA37 ,  4D058JB06 ,  4D058MA44 ,  4D058SA08 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA12 ,  4G169BA01B ,  4G169BC75B ,  4G169BD04A ,  4G169BD04B ,  4G169BD05A ,  4G169BD05B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA18 ,  4G169EA19 ,  4G169EA27 ,  4G169EB15X ,  4G169EB15Y ,  4G169EC09X ,  4G169EC09Y ,  4G169FA03 ,  4G169FB18 ,  4G169FB29 ,  4G169FC05
引用特許:
出願人引用 (3件)

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