特許
J-GLOBAL ID：200903001371609379
露光用マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-001626
公開番号（公開出願番号）：特開平9-189990
出願日： 1996年01月09日
公開日（公表日）： 1997年07月22日
要約：
【要約】【課題】 露光光照射に対する位相シフト膜の透過率・位相差の変動を抑制し、マスクの光学特性の変化を抑制する。【解決手段】 透明基板401上に位相シフト膜402からなるパターンを有する露光用マスクにおいて、位相シフト膜402は、露光光照射によって光学定数に変化が生じるSiNに、露光光照射によって屈折率,消衰係数に関する増減がSiNとは相反する方向に変化するTiを添加することで形成されている。
請求項（抜粋）：
透光性基板上に少なくとも位相シフト膜からなるパターンを有する露光用マスクにおいて、前記位相シフト膜は、露光光照射によって光学定数に変化が生じる第1の物質に、前記露光光照射によって第1の物質とは異なる光学定数変化が生じる第2の物質を添加又は混合して形成されてなることを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
