特許
J-GLOBAL ID：200903050627510155
減衰位相シフト・マスク作成用の薄膜材料及びその作成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-024037
公開番号（公開出願番号）：特開平7-261370
出願日： 1995年02月13日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：
【要約】【目的】 光透過性減衰型位相シフト・マスクを提供する。【構成】 位相シフト・マスクにおいて、所与の波長のエネルギーの減衰を行う位相シフト層を形成する方法であって、前記所与の波長で透過性である基板を用意するステップと、シリコンを含有する付着ターゲットを用意するステップと、反応性窒素成分を含有する気体環境において、付着プロセスを用いて、前記ターゲットから、前記基板上に主としてシリコンと窒素を含有する前記層を付着するステップと、を含む方法が提供される。
請求項（抜粋）：
位相シフト・マスクにおいて、所与の波長のエネルギーの減衰を行う位相シフト層を形成する方法であって、前記所与の波長で透過性である基板を用意するステップと、シリコンを含有する付着ターゲットを用意するステップと、反応性窒素成分を含有する気体環境において、付着プロセスを用いて、前記ターゲットから、前記基板上に主としてシリコンと窒素を含有する前記層を付着するステップと、を含む方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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