パターン検査装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：則近憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-034314
公開番号（公開出願番号）：特開平7-244736
出願日： 1994年03月04日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：

【要約】【目的】パターン検査装置の検査速度を向上させることを目的とする。【構成】パターンが形成された試料に光を照射して得られたパターン像に応じたデータと、パターンを描画する際に用いた描画データに応じたビットパターンデータとを比較することで、前記パターンの検査を行うパターン検査装置において、前記描画データを所定のストライプ幅を有する複数の描画ストライプデータとして記憶し、これら描画ストライプデータを前記パターンを階層的に記述したデータ構造から構成すると共に、前記描画ストライプデータを構成する上位の階層のデータを展開処理する概略展開回路3と、この概略展開回路3により得られた下位の階層のデータを前記ビットパターンデータに展開処理する詳細展開回路5とを設けたことを特徴としている。

請求項（抜粋）：

パターンが形成された試料に光を照射する照射手段と、前記試料に照射された光の透過光あるいは反射光を受光し前記パターンの像に応じた測定データを出力する受光手段と、前記パターンを描画して形成するために用いられた描画データを記憶する記憶手段と、この記憶手段から前記描画データを読み出して入力し、この描画データに基づいて該描画データに応じたビットパターンデータを作成するビット展開手段と、前記測定データと前記ビットパターンデータとを比較することにより、前記試料に形成されたパターンの検査を行う検査手段とを備えたパターン検査装置において、前記描画データは、所定のストライプ幅を有する複数の描画ストライプデータから構成されて前記記憶手段に記憶されており、これら描画ストライプデータのそれぞれを前記パターンを階層的に記述したデータ構造から構成すると共に、前記ビット展開手段を前記描画ストライプデータを構成する上位の階層構造のデータを下位の階層構造のデータに展開処理する概略展開手段と、この概略展開手段により得られた前記下位の階層構造のデータを前記ビットパターンデータに展開処理する詳細展開手段とから構成したことを特徴とするパターン検査装置。

IPC (4件)：

G06T 7/00 , G01N 21/17 , G03F 1/08 , H01L 21/66

FI (2件)：

G06F 15/70 465 , G06F 15/62 405 A

引用特許：

出願人引用 (8件)

パターン欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-105673 出願人：株式会社東芝
特開昭63-199422
特開昭63-172375

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