特許
J-GLOBAL ID：200903031327322263
パターン欠陥検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-105673
公開番号（公開出願番号）：特開平5-281153
出願日： 1992年03月31日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：
【要約】【目的】クロムパターンと位相シフトパターンが混在したフォトマスクのような試料についてもパターンの欠陥検査が可能なパターン欠陥検査装置を提供する。【構成】クロムパターンと位相シフトパターンが混在したフォトマスク1に光を照射し、混在したパターンに対応する測定パターンデータをセンサ回路6から出力させる。一方、磁気ディスク装置9にはクロムパターンを形成するときに用いたクロムパターン設計データと位相シフトパターンを形成するときに用いた位相シフトパターン設計データとが座標定義同一に、かつ識別可能に格納されている。これら設計データをビット展開回路31で読出し、このビット展開回路31でクロムパターン設計データと位相シフトパターン設計データをそれぞれ展開して得たビットデータを座標定義同一で合成する。この合成データと測定パターンデータとが比較回路8に導入されて比較される。
請求項（抜粋）：
パターンの形成されている試料に光を照射し、上記パターンの光学像を受光して光電変換する手段と、この手段で得られた信号を基にして前記パターンに対応した測定パターンデータを発生する手段と、前記試料にパターンを形成するときに用いられたパターン設計データを格納してなる記憶手段と、この記憶手段から読出されたパターン設計データをビットデータに展開するビット展開手段と、この手段で展開されたビットデータにフィルタ処理を施して得たデータと前記測定パターンデータとを比較して前記試料に形成されているパターンの欠陥有無を判定する判定手段とを備えたパターン欠陥検査装置において、前記記憶手段は前記試料に遮光パターンを形成するときに用いられた遮光パターン設計データと位相シフトパターンを形成するときに用いられた位相シフトパターン設計データとを座標定義同一に、かつ識別可能に格納しており、前記ビット展開手段は前記遮光パターン設計データをビット展開して得たビットデータと前記位相シフトパターン設計データを展開して得たビットデータとを座標定義同一で合成したビットデータを出力するものであることを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G03F 1/08
, H01L 21/027
