特許
J-GLOBAL ID:200903001379704842
オゾン貯蔵用シリカゲルおよびその調製方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
矢野 寿一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-227126
公開番号(公開出願番号):特開2002-037618
出願日: 2000年07月27日
公開日(公表日): 2002年02月06日
要約:
【要約】【課題】 オゾン貯蔵に適したシリカゲルを調製することを課題とする。【解決手段】 ケイ酸アルカリの中和により生成したゲルをpH6乃至7になる範囲で水洗し、乾燥させ使用する。または、乾燥させた後に、硫酸もしくは水により洗浄する。シリカゲルに酸素を通じた後に、真空引きしする。アルミニウムを 0.1から0.002重量%含有するシリカゲルをオゾン貯蔵用シリカゲルとして用いる。
請求項(抜粋):
ケイ酸アルカリの中和により生成したゲルをpH6乃至7になる範囲で水洗し、乾燥させた後に、硫酸により洗浄することを特徴とするオゾン貯蔵用シリカゲルの調製方法。
IPC (5件):
C01B 33/157
, B01J 20/10
, B01J 20/30
, C01B 33/12
, C01B 13/00
FI (5件):
C01B 33/157
, B01J 20/10 D
, B01J 20/30
, C01B 33/12 A
, C01B 13/00
Fターム (30件):
4G042AA08
, 4G066AA02D
, 4G066AA22B
, 4G066AA30A
, 4G066AA47D
, 4G066BA28
, 4G066CA21
, 4G066FA05
, 4G066FA11
, 4G066FA17
, 4G066FA21
, 4G066FA36
, 4G066GA06
, 4G066GA14
, 4G066GA16
, 4G072AA28
, 4G072AA36
, 4G072HH21
, 4G072HH22
, 4G072LL05
, 4G072LL06
, 4G072LL07
, 4G072MM23
, 4G072MM24
, 4G072MM31
, 4G072MM33
, 4G072RR06
, 4G072SS11
, 4G072TT19
, 4G072UU11
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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