ポジ型化学増幅レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-028336
公開番号（公開出願番号）：特開2002-229190
出願日： 2001年02月05日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
要約：

【要約】【課題】高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかもPCD、PED安定性及び塗布性に優れたポジ型化学増幅レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (a)エネルギー線の照射により、直接的あるいは間接的にラジカル(A)を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型化学増幅レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)エネルギー線の照射により、直接的あるいは間接的にラジカル(A)を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型化学増幅レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/004 501 , C08K 5/00 , C08L 25/00 , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 501 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/004 501 , C08K 5/00 , C08L 25/00 , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (55件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA11 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CA00 , 2H025CA14 , 2H025CB41 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002BC111 , 4J002BC121 , 4J002BG031 , 4J002BG071 , 4J002BH011 , 4J002EB026 , 4J002EB106 , 4J002EB117 , 4J002EB126 , 4J002EC058 , 4J002ED058 , 4J002EE036 , 4J002EE038 , 4J002EE056 , 4J002EF036 , 4J002EH036 , 4J002EH148 , 4J002EJ026 , 4J002EL088 , 4J002EU027 , 4J002EU187 , 4J002EU217 , 4J002EV026 , 4J002EV046 , 4J002EV048 , 4J002EV208 , 4J002EV226 , 4J002EV227 , 4J002EV228 , 4J002EV237 , 4J002EV257 , 4J002EV267 , 4J002EV297 , 4J002EV307 , 4J002EV317 , 4J002EW046 , 4J002EX036 , 4J002GP03

引用特許：

審査官引用 (4件)

ポジ型感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-230831 出願人：富士写真フイルム株式会社
化学増幅系レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-236927 出願人：日本合成ゴム株式会社
特開平4-349463

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