特許
J-GLOBAL ID：200903001484685152
位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-038118
公開番号（公開出願番号）：特開平11-223931
出願日： 1998年02月04日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：
【要約】【課題】 MSi系半透明膜(Mは金属又は遷移金属)における屈折率の制御をある程度自由に行うことができ、したがって、要求特性の制御の幅の広いハーフトーン型位相シフトマスブランク等を提供する。【解決手段】 位相シフトマスクを作製するための位相シフトマスクブランクであって、透明性基板1を直接透過する光に対して半透明膜2を透過する光に所定量の位相差を生じさせる機能と光の強度を減衰させる機能とを有する半透明膜2を透明性基板1上に形成したハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記半透明膜2の主たる構成元素を、金属及び遷移金属から選ばれる少なくとも一つの元素と、珪素と、アルミニウムと、窒素及び/又は酸素とする。
請求項（抜粋）：
位相シフトマスクを作製するための位相シフトマスクブランクであって、透明性基板を直接透過する光に対して半透明膜を透過する光に所定量の位相差を生じさせる機能と光の強度を減衰させる機能とを有する半透明膜を透明性基板上に形成したハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記半透明膜の主たる構成元素が、珪素と、アルミニウムと、窒素及び/又は酸素であることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
