特許
J-GLOBAL ID：200903070087478126
ハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス、ハーフトーン位相シフトフォトマスク、及び、それらの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-188586
公開番号（公開出願番号）：特開平7-043887
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：
【要約】【目的】 ブランクス又はフォトマスク作製後においても、位相シフト部の透過率を変えることができ、様々なパターンに対応でき、大量生産可能なハーフトーン位相シフトフォトマスク及びそのためのブランクス。【構成】 ハーフトーン位相シフト層の露光光透過率を、その成膜工程、又は、フォトマスク製造工程と分離された、150°C以上の高温にさらす工程、酸化性雰囲気中にさらす工程、還元雰囲気中にさらす工程等によって、1%から50%の間に含まれる範囲内で任意に変える。これにより、ブランクス又はフォトマスク製造後に所望の露光光透過率に調節でき、転写パターンの寸法、面積、配置、形状等によって最適なハーフトーン位相シフトフォトマスクを得ることができる。
請求項（抜粋）：
透明基板上にハーフトーン位相シフト層を有するハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスにおいて、前記ハーフトーン位相シフト層の成膜工程と分離された別工程により、前記透明基板を100%としたときの前記ハーフトーン位相シフト層の露光光に対する透過率を、1%から50%の間に含まれる範囲内で変えることができることを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
