キノンジアジドの合成法およびこれを含むポジ型レジスト

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-267490
公開番号（公開出願番号）：特開平8-157445
出願日： 1994年10月31日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：

【要約】【目的】特定の水酸基が分子内に残存する、所望の感光物異性体を高選択的に合成できるキノンジアジドエステルの合成法を提供し、更に高解像力で且つ解像力の膜厚依存性が小さく、且つ現像残渣が発生しにくく、経時保存安定性に優れたポジ型フォトレジストを提供する。【構成】ポリヒドロキシ化合物と1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルフォニルクロリドのエステル化反応によりキノンジアジドエステルを合成する際に、下記一般式(I)又は(II)で表される塩基化合物を塩基触媒として用いることを特徴とするキノンジアジドの合成法及びこれを含むポジ型レジスト。【化1】式中、R1〜R15は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基(但し、R1,R10,R11は水素原子ではない)、l、m、nは1又は2を表わす。

請求項（抜粋）：

ポリヒドロキシ化合物と1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルフォニルクロリドのエステル化反応によりキノンジアジドエステルを合成する際に、下記一般式(I)又は(II)で表される塩基化合物を塩基触媒として用いることを特徴とするキノンジアジドエステルの合成法。【化1】式中、R1〜R15は、各々水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基(ただし、R1、R10、R11は水素原子ではない)を表し、l、m、nは各々1又は2を表わす。

IPC (5件)：

C07C309/69 , B01J 31/02 102 , C07C303/28 , G03F 7/022 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭58-219548
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-124536 出願人：住友化学工業株式会社
ポジ型フオトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-047327 出願人：富士写真フイルム株式会社

前のページに戻る