特許

J-GLOBAL ID：200903001591955545

3次元フォトニック結晶構造体の作製方法

発明者： 納富 雅也 ,  玉村 敏昭 ,  高橋 千春 ,  川上 彰二郎 ,  大寺 康夫 ,  川嶋 貴之
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社 ,  川上 彰二郎
代理人 (1件)： 谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-246522
公開番号（公開出願番号）：特開2001-074954
出願日： 1999年08月31日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：

【要約】【課題】 3次元フルバンドギャップフォトニック結晶構造体の従来の作製方法が非常に高度な作製技術を必要とし、多層で十分な面積を持った結晶を作ることが非常に困難であった問題点を解決する。【解決手段】 1次元または2次元の周期パターンを形成した基板上へ2種類以上の屈折率の異なる材料を交互に積層することにより2次元または3次元周期積層構造体を形成する周期積層構造体形成工程と、前記周期積層構造体に、その周期性方向に対して垂直に、1次元または2次元の垂直周期構造を加工する垂直周期構造形成工程と、を有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

1次元または2次元の周期パターンを形成した基板上へ2種類以上の屈折率の異なる材料を交互に積層することにより2次元または3次元周期積層構造体を形成する周期積層構造体形成工程と、前記周期積層構造体に、その周期性方向に対して垂直に、1次元または2次元の垂直周期構造を加工する垂直周期構造形成工程と、を有することを特徴とする3次元フォトニック結晶構造体の作製方法。

Fターム (5件)：

2H047PA04 ,  2H047PA24 ,  2H047QA02 ,  2H047QA04 ,  2H047TA00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭10-335758
  
• 3次元周期構造体及びその作製方法並びに膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-040736   出願人：川上彰二郎