流体分離フィルタの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-081001
公開番号（公開出願番号）：特開2003-275551
出願日： 2002年03月22日
公開日（公表日）： 2003年09月30日
要約：

【要約】【課題】クラック発生を抑制するとともに、高い透過速度を有する流体分離フィルタの製造方法を提供する。【解決手段】Si、Ti、Zr、Alの少なくとも1種の金属とポリビニルピロリジノンを含むゾルを作製し、該ゾルを支持体2の表面に塗布した後に焼成して分離膜3を作製すること、又は、Si、Ti、Zr、Alの少なくとも1種の金属とポリビニルピロリジノンを含むゾルを作製し、該ゾルを支持体2の表面に塗布した後に焼成して中間層5を作製し、しかる後に該中間層5の上に分離膜3を形成することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ゾルゲル法を用いて支持体の上に分離膜を形成する流体分離フィルタの製造方法において、Si、Ti、Zr、Alの少なくとも1種の金属及びポリビニルピロリジノンを含むゾルを作製し、該ゾルを支持体の表面に塗布した後に焼成して分離膜を作製することを特徴とする流体分離フィルタの製造方法。

IPC (3件)：

B01D 69/12 , B01D 71/02 , B01D 71/02 500

FI (3件)：

B01D 69/12 , B01D 71/02 , B01D 71/02 500

Fターム (22件)：

4D006GA02 , 4D006GA41 , 4D006MA02 , 4D006MA03 , 4D006MA06 , 4D006MA09 , 4D006MA21 , 4D006MB15 , 4D006MB16 , 4D006MC02X , 4D006NA46 , 4D006NA49 , 4D006NA63 , 4D006PA02 , 4D006PB03 , 4D006PB08 , 4D006PB32 , 4D006PB62 , 4D006PB64 , 4D006PB66 , 4D006PC11 , 4D006PC71

引用特許：

審査官引用 (2件)

水素ガス分離フィルタおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-309649 出願人：京セラ株式会社
二酸化炭素分離膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-176776 出願人：財団法人電力中央研究所

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