特許

J-GLOBAL ID：200903001620701280

微細パターン形成方法、光学素子の製造方法、光学素子および光伝送装置

発明者： 嶋田 幹大 ,  是永 継博 ,  飯田 正憲 ,  朝倉 宏之
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 松田 正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-049194
公開番号（公開出願番号）：特開2001-235646
出願日： 2000年02月25日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：

【要約】【課題】 微細で深くかつ表面に粗さのないパターン形成方法を提供することによって、性能、量産性、低コスト性を兼ね備えた光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】 基板1の一部に、少なくとも一対の列を有するパターンのエッチングマスク2を形成する工程と、基板1にエッチングマスク2を用いてエッチングを行い、基板1上に少なくとも一対の断面凸型の列を有するパターンを形成する工程とを備え、前記一対の断面凸型の列に挟まれた領域に、断面凹型の溝を形成することを特徴とする微細パターン形成方法。

請求項（抜粋）：

基板の一部に、少なくとも一対の列を有するパターンのエッチングマスクを形成する工程と、前記基板に前記エッチングマスクを用いてエッチングを行い、前記基板上に少なくとも一対の断面凸型の列を有するパターンを形成する工程とを備え、前記一対の断面凸型の列に挟まれた領域に、断面凹型の溝を形成することを特徴とする微細パターン形成方法。

IPC (2件)：

G02B 6/13 ,  G02B 6/122

FI (2件)：

G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 A

Fターム (6件)：

2H047KA03 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA04 ,  2H047QA05 ,  2H047TA43

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ガーネット導波路の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-102480   出願人：日本電信電話株式会社
• 光導波路及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-260333   出願人：日立電線株式会社
• 光導波路及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-182726   出願人：松下電器産業株式会社