特許
J-GLOBAL ID:200903001631240366
紫外線照射装置、照射対象物加熱制御方法及び赤外線発生手段用温度調整制御プログラム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 勇
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-265574
公開番号(公開出願番号):特開2008-080296
出願日: 2006年09月28日
公開日(公表日): 2008年04月10日
要約:
【課題】 光源から放出される光線のエネルギーを無駄にすることなく、照射対象物の温度コントロールのために有効に活用することが可能な紫外線照射装置の実現を目的とする。【解決手段】 紫外線を含んだ光を放射する紫外線ランプ1と、この紫外線ランプ1からの光を紫外線とそれ以外の光線に分離するコールドミラー2と、このコールドミラー2で分離された紫外線以外の光線を吸収する光吸収板4と、この光吸収板4の光線吸収に伴う温度上昇の結果、発生する赤外線と、コールドミラー2で分離された紫外線とを照射対象物に照射し、紫外線によってワーク5表面の処理を行うとともに、赤外線によってワーク5の温度を制御する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
露光用の紫外線を照射対象物に照射する紫外線照射装置であって、
前記紫外線を含んだ光を放射する光源と、
この光源からの出力光の中の前記紫外線を前記照射対象物に向けて反射するとともに、それ以外の光線を透過するコールドミラーと、
このコールドミラーを透過した前記紫外線以外の光線を吸収して前記コールドミラー側に向けて赤外線を発生する赤外線発生手段と、
前記赤外線発生手段の温度を制御する温度制御手段とを備えたことを特徴とする紫外線照射装置。
IPC (3件):
B01J 19/12
, B01J 19/00
, H01L 21/027
FI (3件):
B01J19/12 C
, B01J19/00 G
, H01L21/30 502H
Fターム (20件):
4G075AA01
, 4G075AA03
, 4G075BA04
, 4G075CA33
, 4G075CA34
, 4G075DA04
, 4G075EA06
, 4G075EB33
, 4G075EB34
, 4G075EB35
, 4G075EC25
, 4G075FB02
, 4G075FB03
, 4G075FB06
, 5F046AA22
, 5F046CA01
, 5F046CB02
, 5F046DA26
, 5F046DA27
, 5F046DB02
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
紫外線照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-263475
出願人:日本電池株式会社
-
局所アッシング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-187651
出願人:日本電池株式会社
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