超音波処理方法および装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：薄田利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-290010
公開番号（公開出願番号）：特開平9-122480
出願日： 1995年11月08日
公開日（公表日）： 1997年05月13日
要約：

【要約】【課題】超音波によって作り出される位置ポテンシャル分布の形状を任意に制御し、微粒子を濃縮、分画または周期的に配列させる。【解決手段】濃縮、分画あるいは配列させたい微粒子を含む試料溶液に超音波を作用させる容器5に対し、微粒子に所定の方向に向かう力、あるいは所定の領域に留まる力を作用させる位置ポテンシャル勾配を作り出す超音波の強度分布を作り出すための超音波を作用させる照射超音波発生源を備え、特定の強度、特定の周波数、特定の位相の超音波あるいはこれらを重ね合せた超音波によりこれを実現する。

請求項（抜粋）：

容器内の濃縮、排除あるいは配列させたい微粒子を含む流体に複数の超音波を作用させること、該複数の超音波を発生する超音波振動子からの周波数、強度および位相差を前記超音波を経時的に変化させることとよりなり、前記微粒子に所定の方向に向かう力の作用から所定の領域に留まる力の作用に変化させることを特徴とする超音波処理方法。

IPC (2件)：

B01J 19/10 , G01N 1/36

FI (2件)：

B01J 19/10 , G01N 1/28 Z

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開平3-021340
超音波による流体中の微粒子処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-296310 出願人：株式会社日立製作所
微粒子計測装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-025131 出願人：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社

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審査官引用 (10件)

特開平3-021340
特開平3-021340
超音波による流体中の微粒子処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-296310 出願人：株式会社日立製作所

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