特許
J-GLOBAL ID:200903001663967926

アクチュエータ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-296692
公開番号(公開出願番号):特開2009-124875
出願日: 2007年11月15日
公開日(公表日): 2009年06月04日
要約:
【課題】予備歪み処理を施さずとも大きな作動量を得ることのできるアクチュエータを提供する。【解決手段】アクチュエータは、渦巻き状にロールさせて円筒状となったシート体1を備える。シート体1は、誘電エラストマ層5の表裏両面にそれぞれ電極6,7を貼り付けることにより形成され、電極6、7への電圧の印可を通じて厚さ方向に縮むとともに同厚さ方向と直交する方向に伸びる。アクチュエータは、電極6,7に対する電圧印可及び同電圧印可の解除を通じて円筒状のシート体1を、その中心線方向に伸縮させることにより作動する。誘電エラストマ層5を形成するための材料に関しては、作用する応力ρに基づく歪みεが「0」から「0」よりも大きく且つ「0」に近い値となるまでの領域である低歪み領域でのヤング率Eが、前記低歪み領域よりも歪みが大きな値となる領域である高歪み領域でのヤング率Eに比べて小さくなるものが用いられる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
弾性を有する誘電エラストマ層の表裏両面にそれぞれ電極が設けられ、その電極に対する電圧印可及び同電圧印可の解除によって前記誘電エラストマ層を伸縮させることにより作動するアクチュエータにおいて、 前記誘電エラストマ層に関しては、作用する応力に基づく歪みが「0」から「0」よりも大きく且つ「0」に近い値となるまでの領域である低歪み領域でのヤング率が、前記低歪み領域よりも歪みが大きな値となる領域である高歪み領域でのヤング率と比べて小さくなる材料によって形成されていることを特徴とするアクチュエータ。
IPC (2件):
H02N 11/00 ,  C08G 85/00
FI (2件):
H02N11/00 Z ,  C08G85/00
Fターム (6件):
4J031AA53 ,  4J031AF30 ,  4J031CA06 ,  4J031CA67 ,  4J031CA69 ,  4J031CA77
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (2件)
  • 液晶性ポリロタキサン
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2007-053885   出願人:国立大学法人東京大学
  • 特許第7915792号

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