特許

J-GLOBAL ID：200903001726091180

分子化合物を用いた積層超構造

発明者： 堀田 収 ,  吉田 郵司 ,  谷垣 宣孝 ,  八瀬 清志
出願人/特許権者： 経済産業省産業技術総合研究所長 ,  財団法人 化学技術戦略推進機構
代理人 (2件)： 蔵合 正博 ,  蔵合 正博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-085322
公開番号（公開出願番号）：特開2001-270027
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
要約：

【要約】【課題】 分子軸の配向を最適制御してデバイス特性の向上を可能にする積層超構造を提供すること。【解決手段】 個々の薄膜において分子軸の配向を最適制御した積層超構造とする。これらの積層超構造は、それぞれの薄膜において分子軸が基板に対して垂直に配列されるものと平行に配列されるものとの2種類に大別される。これによって、たとえば遷移モーメントの方向を制御することが可能になり、デバイス特性の向上を可能にする。

請求項（抜粋）：

異なる2種類あるいはそれ以上の分子化合物からなり、それぞれの分子化合物を構成する分子の分子軸が基板に垂直に配向する薄膜からなる積層超構造。

IPC (5件)：

B32B 9/00 ,  G02B 5/30 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 ,  C09K 11/06 635

FI (5件)：

B32B 9/00 Z ,  G02B 5/30 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 B ,  C09K 11/06 635

Fターム (25件)：

2H049BA08 ,  2H049BA46 ,  2H049BB62 ,  2H049BC21 ,  3K007AB03 ,  3K007AB04 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4F100AH01A ,  4F100AH01B ,  4F100AH04A ,  4F100AH04B ,  4F100AH07A ,  4F100AH07B ,  4F100AR00A ,  4F100AR00B ,  4F100BA02 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100BA13 ,  4F100GB90 ,  4F100JA20A ,  4F100JA20B ,  4F100JM02A ,  4F100JM02B

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 単分子膜の製造方法及び単分子累積膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-052446   出願人：株式会社東芝
• 配向分子薄膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-156601   出願人：住友化学工業株式会社

審査官引用 (2件)

• 単分子膜の製造方法及び単分子累積膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-052446   出願人：株式会社東芝
• 配向分子薄膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-156601   出願人：住友化学工業株式会社

引用文献：

出願人引用 (1件)

• 白金ジオンジオキシム錯体蒸着膜の配向特性およびヘテロ積層膜の作成

審査官引用 (1件)

• 白金ジオンジオキシム錯体蒸着膜の配向特性およびヘテロ積層膜の作成