特許

J-GLOBAL ID：200903001752983404

所定の特徴及び許容差を識別するために知識画像パターンの収縮、拡張及び処理を用いた幾何形状パターン検査のための方法及び装置

発明者： ロバート・ビショップ ,  リチャード・デイモン
出願人/特許権者： ベルトロニクス,インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-028324
公開番号（公開出願番号）：特開平5-281148
出願日： 1992年02月14日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：

【要約】【目的】ウェハ及び印刷回路基板及びそれに関連する用途に最適なパターン検査技法及び装置を提供する。【構成】本発明は、新規な知識画像パターン縮小及び拡張アーキテクチャを用いて、許容可能ライン幅、スペーシングを周囲の材料との関連において識別し、欠陥又は誤りを同定する。

請求項（抜粋）：

許容可能数の画素の所定の範囲から走査画像化された導体ライン幅の変位を検出するための方法であって、導体ラインが特定の金属材料から成り、ラインを囲む他の材料製の、ウェハや印刷回路基板のような基体上に載置される場合において:該方法が、導体ライン及び周囲の基体領域を走査画像化するステップと;許容可能な数の画素のライン幅と許容可能なライン周囲領域の組合わせの所定の許容可能範囲の各々を確立してプログラミングするステップと;連続的に電子的に画像化された導体ラインを、1回に1画素ずつ、連続順次縮小ステージの回数だけ、かかるステージにある画像化されたラインが1画素になるまで、縮小するステップと;前記プログラミングに従って、このように、縮小された画像を、前記周囲の基体領域との関連において、前記許容可能なライン周囲領域の組合わせを検証するべく、試験するステップと;ラインと周囲領域が前記許容可能な組合わせである検証されなかった場合、または前記1つのステージの連続番号が前記許容可能な範囲の画素に対応するステージ番号よりも大きいか小さい場合に、誤りを表示するステップと;から成ることを特徴とする方法。

IPC (5件)：

G01N 21/88 ,  G01B 11/24 ,  G06F 15/62 405 ,  H01L 21/66 ,  H05K 3/00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-184579
  
• 配線パターン検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-346031   出願人：松下電器産業株式会社