特許
J-GLOBAL ID：200903001794038106
薄膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-167214
公開番号（公開出願番号）：特開平9-010657
出願日： 1995年07月03日
公開日（公表日）： 1997年01月14日
要約：
【要約】【目的】 薄膜の形成に使用されるスピンコータに関し、塗布液の使用効率の悪さと薄膜の膜厚の不均一さをなくし、塗布液の無駄がなく、所定の膜厚の薄膜を自由に作成できる優れた性能の薄膜形成装置を提供することを目的とする。【構成】 微細ノズルを複数個有するインクジェットヘッド11と、インクジェット11から吐出された液体が付着される被塗布基板10を所定の回転軸13の回りに回転させる回転手段と、インクジェットヘッド11と被塗布基板10とを回転軸の近傍領域と回転軸から離間した離間領域との間で相対移動させる相対移動手段と、インクジェットヘッド11と被塗布基板10との相対位置が近傍領域から離間領域に向かって相対移動するに対応して相対移動手段による相対移動の速度が小さくなるように相対移動手段を制御する相対移動制御手段とを有する。
請求項（抜粋）：
液体を吐出する微細ノズルを複数個有するインクジェットヘッドと、前記インクジェットから吐出された液体が付着される被塗布基板を所定の回転軸の回りに回転させる回転手段と、前記インクジェットヘッドと前記被塗布基板とを前記被塗布基板に対する前記回転軸の近傍領域と前記回転軸から離間した離間領域との間で相対移動させる相対移動手段と、前記インクジェットヘッドと前記被塗布基板との相対位置が前記近傍領域から前記離間領域に向かって相対移動するに対応して前記相対移動手段による相対移動の速度が小さくなるように前記相対移動手段を制御する相対移動制御手段とを有する薄膜形成装置。
IPC (4件)：
B05C 11/08
, H01L 21/027
, H01L 21/31
, H01L 21/312
B05C 11/08
, H01L 21/31 A
, H01L 21/312 D
, H01L 21/30 564 C
